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2010年07月16日

Micromachine/MEMS 2010に出展いたします
7/28(水)~7/30(金)に東京ビックサイトで開催されるMicromachine/MEMS 2010大日本スクリーン製造株式会社ブース(小間NO:F-17)におきまして、
レジストスプレイコータ(RS-C810A/810L)、コンパクトウェットステーション(CW-1500)、パターン付きウェーハ外観検査装置(ZI-2000)、ナノインプリント製造装置(XT-1000)をご紹介いたします。

2009年11月25日

SEMICON Japan 2009に出展いたします
12/2(水)~12/4(金)に幕張メッセ(日本コンベンションセンター)で開催されるSEMICON Japan 2009の大日本スクリーン製造株式会社ブース(小間NO:4D-601)におきまして、
コンパクトウェットステーション(CW-1500)、パターン付きウェーハ外観検査装置(ZI-2000)、ナノインプリント製造装置(XT-1000)をご紹介いたします。

2009年10月01日

社長の交代
10月1日付で大﨑敏行は当社非常勤取締役から代表取締役社長に就任いたしました。
代表取締役社長の西澤久雄は当社非常勤取締役となり、大日本スクリーン製造株式会社執行役員に就任いたしました。

2009年07月08日

高段差基板へのレジスト塗布例を公開
技術情報のコーナーにレジストスプレイコータを使用した高段差基板へのレジスト塗布例を公開しました。

2009年07月03日

「技術情報」の公開に関するおしらせ
「製品紹介」のページ内に「技術情報」のコーナーを新設しました。
バッチ式簡易ウェーハ洗浄装置」の開発に関する情報を公開中です。